紫外線高級(jí)還原工藝（UV-ARPs）利用紫外光照射亞硫酸根等前體物，產(chǎn)生水合電子（e??q，還原電位-2.9V）和氫自由基（H·，還原電位-2.3V），通過(guò)還原反應(yīng)降解氧化法難以處理的還原性污染物，如全氟化合物（PFCAs），實(shí)現(xiàn)脫鹵或礦化。

一、高級(jí)還原工藝是氧化工藝的重要補(bǔ)充

紫外線高級(jí)還原工藝為處理傳統(tǒng)氧化工藝難以解決的還原性污染物提供了可能。UV-ARPs利用紫外光照射產(chǎn)生強(qiáng)還原性活性中間體，主要是水合電子（e??q）和氫自由基（H·），通過(guò)還原反應(yīng)來(lái)降解目標(biāo)污染物。具體過(guò)程是利用無(wú)機(jī)陰離子（如亞硫酸根離子SO?2?、碘離子I?等）作為前體物，這些陰離子在紫外光照射下，通過(guò)電荷轉(zhuǎn)移至溶劑機(jī)制，將一個(gè)電子釋放到周?chē)乃肿踊\中，形成水合電子和相應(yīng)的自由基。水合電子和氫自由基是很強(qiáng)的還原劑，其標(biāo)準(zhǔn)還原電位分別為-2.9 V和-2.3 V。

二、高級(jí)還原工藝的動(dòng)力學(xué)特征

紫外線高級(jí)還原工藝的動(dòng)力學(xué)遵循與紫外線高級(jí)氧化工藝類似的鏈?zhǔn)椒磻?yīng)網(wǎng)絡(luò)和穩(wěn)態(tài)模型。

目標(biāo)污染物的還原降解速率通常可描述為準(zhǔn)一級(jí)動(dòng)力學(xué)。例如，全氟化合物在UV/S(IV)工藝中的衰減和脫氟過(guò)程，就證明了該工藝的一級(jí)動(dòng)力學(xué)反應(yīng)特征。

紫外線高級(jí)還原工藝的主要影響因素是前體物的形態(tài)與pH值。是常用的前體物是四價(jià)硫化合物（S(IV)），pH值通過(guò)影響這些活性前體物的濃度，直接決定了水合電子等還原性中間體的生成效率。在最佳pH條件下，前體物主要以高光解活性的形態(tài)存在。

該工藝的效率由前體物的光解動(dòng)力學(xué)和復(fù)雜的還原性鏈?zhǔn)椒磻?yīng)網(wǎng)絡(luò)共同決定。通常，它需要無(wú)氧環(huán)境以保護(hù)還原性中間體，且反應(yīng)網(wǎng)絡(luò)較為復(fù)雜。

安力斯環(huán)境通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新和工藝優(yōu)化，已在特定應(yīng)用場(chǎng)景中成功實(shí)現(xiàn)了UV-ARPs的工程化應(yīng)用。特別是在全氟化合物等新興難降解污染物的治理方面，該技術(shù)展現(xiàn)出獨(dú)特優(yōu)勢(shì)，為我國(guó)新污染物治理提供了新的技術(shù)選擇。